第181章 光刻机，制硅，芯片（1/4）
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李卫东睁开眼睛，目光中闪烁着坚定的光芒。
暗暗发誓，要用自己的能力来改变这一切，要让炎国重新站在光刻机技术的最前沿。
系统的声音在他脑海中响起：
【叮！兑换成功，您已获得第一代和第二代光刻机技术。】
李卫东深吸一口气，开始仔细回顾刚刚获得的知识。
第一代光刻机，采用的是接触式曝光技术。
它通过将掩模版直接与涂有光刻胶的硅片接触，然后用紫外线照射，将图形转移到硅片上。
这种方法虽然简单直接，但由于掩模版与硅片的直接接触，容易造成损坏，且分辨率有限。
第二代光刻机则采用了近贴合式曝光技术。
它在掩模版与硅片之间保持一个很小的间隙，通过压缩空气或惰*气体填充这个间隙，既避免了直接接触带来的损坏，又提高了分辨率。
这种
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