第503章 nmEBL光刻机研发成功（2/4）

他的目光停留在机*上，眼里充满了期待。

每隔几天，郝强就过来看看项目进展，确保一切都在计划轨道上。

郝强站在一个屏幕前，看了眼设备运行。

电子束在硅片表面快速而精准地雕刻着微小的电路图案，每秒曝光可以达到60万次以上，画完一个芯片的速度非常快，一片硅片仅需要几十秒钟而已。

但是，一块芯片需要画许多层。

针对青龙8124，14nm EbL光刻机最大产能为：150wph（wafers per hour，即每小时可处理的晶圆数量。）

而7nm EbL光刻机最大产能为：100wph（wafers per hour，即每小时可处理的晶圆数量。）

随着机*启动的低沉嗡嗡声响起，实验室里的工作人员开始紧张地调整设备，进入各项测试环节。

陈臻站

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