第497章 荒谬的起诉（1/4）

郝强来到EbL光刻机实验室，指导员工研发7nm EbL光刻机。

项目组某一位技术专家看到董事长到来，眼前一亮，上前跟他汇报：“董事长，您来了。”

“嗯，现在你们碰到什么较难解决的技术问题？”郝强直入话题。

“我自己这边统计了一下，目前有三个最难解决的难题。”这位技术专家娓娓道来，“第一点，分辨率与精度。

7nm级别的光刻需要更高的分辨率和精确度，以确保电路的功能和*能，制造更小的特征需要克服物理和化学限制。”

7nm比14nm，也就意味着使用更小的“画笔”。

设计同样的芯片，所使用的画板（晶圆面积）就更小，即芯片更小，往着更精密的方向发展。

专家看到郝强点头，接着说道：“第二点，图案转移与对准。”

在7nm工艺中，图案转移的准确*请关闭浏览器的畅读模式或者取消屏蔽JavaScript的正常运行，避免出现内容显示不全或者段落错乱。

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